จีนเดินหน้าลดระยะเวลาตรวจสอบ 'สิทธิบัตร' เพิ่มเติม

ปักกิ่ง, 23 มิ.ย. (ซินหัว) -- วันพฤหัสบดี (23 มิ.ย.) สำนักบริหารทรัพย์สินทางปัญญาแห่งชาติจีน เปิดเผยว่าจีนจะยกระดับประสิทธิภาพการตรวจสอบสิทธิบัตรเพิ่มเติม เพื่อสนับสนุนสภาพแวดล้อมทางธุรกิจและนวัตกรรมให้ดียิ่งขึ้น

รายงานระบุว่าระยะเวลาของขั้นตอนตรวจสอบสิทธิบัตรมูลค่าสูงถูกตัดลดลงเหลือ 13.3 เดือน เมื่อนับถึงสิ้นปี 2021 ซึ่งบรรลุเป้าหมายเร็วกว่าที่กำหนดไว้ประสิทธิภาพของจีนในการดำเนินขั้นตอนยื่นขอสิทธิบัตรนั้นอยู่ในระดับแนวหน้าของโลก โดยจีนวางแผนตัดลดระยะเวลาเฉลี่ยของการตรวจสอบสิทธิบัตรการประดิษฐ์ลง 1 ใน 3 และสิทธิบัตรมูลค่าสูงลงมากกว่าครึ่งหนึ่งภายใน 5 ปี นับจากปี 2018ทั้งนี้ สำนักฯ ระบุว่าการตัดลดระยะเวลาของขั้นตอนตรวจสิทธิบัตรการประดิษฐ์จะบรรลุเป้าหมายภายในสิ้นปีนี้